ノリタケ株式会社 (本社：愛知県名古屋市、代表取締役社長：東山 明、以下 ノリタケ) は、高速通信向けなどに用いられる窒化ガリウム (GaN) ウエハー用の研磨パッドを開発しました。本開発品は、GaNウエハー研磨の加工時間短縮と、寿命延長を達成し、産業廃棄物の低減にも貢献します。

通信デバイスの製造工程では、半導体ウエハー上に微細な回路を形成するために、研磨パッドを用いてウエハー表面を研磨し平坦化する必要があります。しかし、GaNは非常に硬く脆い素材のため、研磨加工が難しく、平坦な表面を得るための加工時間が長いという課題があります。GaNウエハーを短時間で研磨するために、強酸性領域 (pH^※21～2) での研磨が求められていますが、半導体分野で広く用いられている研磨パッド (スエードパッド) では、強酸性領域での使用に耐えられず劣化してしまいます。
また、従来の研磨方式では、研磨剤スラリー^※3をパッドの表面に流しながら研磨しますが、研磨剤スラリーは使用後に産業廃棄物となるため、低減が必要です。

③ 産業廃棄物を低減可能
・研磨の加工時間短縮によって、研磨剤スラリーの使用量を低減。
・研磨剤を内包させたことで、研磨剤スラリーを使わない研磨加工も可能。
・寿命延長により、廃棄されるパッドも低減。

スエードパッドはpH10 (弱アルカリ性領域)、ノリタケ品はpH1 (強酸性領域) で研磨加工した比較。

※1　主にコンピューターの内部で、情報の発信や受信を行うために使用される機器。
※2　酸性またはアルカリ性を示す尺度。7未満が酸性で、数値が小さいほど、酸性の度合いが強い
※3　研磨剤 (粒子) を水溶液に分散させたもの。
※4　スエードパッドはpH10 (弱アルカリ性領域)、ノリタケ品はpH1 (強酸性領域) で研磨加工した比較。