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光学膜用膜退火炉

工程

光学膜用膜退火炉
使用温度 R.T.~240℃
温度精度 ±3℃
气氛 Air、N2(Option)
清洁度 Class 1000
膜宽 500~1700mm
输送张力 无张力(加热炉内)

用途

  • ITO膜晶化退火工序
  • 各种功能膜的退火工序
  • 光学膜的单体退火处理工序( PI、PEN、PET、PMMA等)

均匀加热

通过可用于各类膜的远红外线加热器的区域排列,实现了高精度温度分布。

专用于光学膜的Roll to Roll输送方式

提供可减轻加热输送时的负载,并且不会引起产品的歪曲和运输裂痕的输送方式。