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光学フィルム対応フィルムアニール炉

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光学フィルム対応フィルムアニール炉
使用温度 R.T.~240℃
温度精度 ±3℃
雰囲気 Air、N2(Option)
クリーン度 Class 1000
フィルム幅 500~1700mm
搬送張力 無張力(加熱炉内)

用途

  • ITOフィルム結晶化アニール工程
  • 各種機能膜フィルムのアニール工程
  • 光学フィルムの単体アニール処理工程( PI、PEN、PET、PMMA等)

均一加熱

幅広フィルムに対応した遠赤外線ヒーターのゾーン配列により、高精度な温度分布を実現しました。

光学フィルム専用ロールtoロール搬送方式

加熱搬送時の負荷を低減し、製品に歪みと搬送キズを残さない搬送方式を提案します。

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